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【半導体】ASMLの露光装置2025年生産目標　EUV 90台・DUV 600台・High-Na EUV 20台　台湾報道
2024-06-28 11:56:08
台湾の大手経済紙『工商時報』は2024年6月28日付で、台湾と日本の半導体製造装置サプライチェーンの話として、半導体製造装置大手の蘭ASMLが、2025年の生産分として、極端紫外線（EUV）露光装置90台、深紫外線（DUV）露光装置600台、高開口数（High-Na）EUV装置20台の目標を掲げたと報じた。ファウンドリ最大手の台湾TSMC（台積電）が台湾の台南、新竹、高雄に3nm（ナノメートル）「N3」・2nm「N2」プロセスの生産拠点を建設していることや、熊本と米アリゾナ州の新工場建設が順調なことが目標設定の背景にあるという。

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