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【半導体】ASMLの最先端EUV露光装置、TSMCが1割引で購入　DIGITIMESレポート
2024-06-25 11:23:35
調査会社DIGITIMES Researchは2024年6月19日付レポートで台湾の半導体製造装置サプライチェーンの話として、先ごろ蘭ASMLのオランダ本社を訪問したファウンドリ世界最大手、台湾TSMC（台積電）の魏哲家・董事長（会長）兼最高経営責任者（CEO）をはじめとする一行が、ASMLの高解像度EUV（極端紫外線）リソグラフィの次世代技術である高開口数（High-Na）EUV装置の供給で、ASMLと初歩的な合意に達成したと伝えた。TSMCは、理想的な値引きを得た他、技術支援や修理等のアフターサービスで多くの優待条件を追加で獲得したとしている。

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